پوشش دهی فوق سخت با دستگاههای ایرانی امکان پذیر شد
یکی از شرکتهای مهندسی دستگاههای لایه نشانی پوشش های فوق سخت را برای پوشش دهی لایه های بسیار سخت، لایه های فوق سخت و پوشش های نانو کامپوزیت تولید و عرضه نموده است.
به گزارش هوا فضا به نقل از ایسنا، یکی از شرکتهای مهندسی دستگاه لایه نشانی پوشش های فوق سخت با فناوری هیبریدی را برای پوشش دهی لایه های بسیار سخت، لایه های فوق سخت و پوشش های نانو کامپوزیت شامل TiN، TiAlN، CrN، ZrN، AlCrTiN و TiAlSiN عرضه کرده است. این پوشش ها بر روی ابزارآلات به منظور افزایش عملکرد و عمر کاری آنها قابل استفاده می باشد.
این شرکت بعنوان یکی ازشرکت های صنعتی توسعه دهنده پوشش های نانولایه و نانوکامپوزیتی است و تجهیزات ساخته شده در این شرکت مبتنی بر روش رسوب دهی بخار پلاسمایی است. لایه نشانی پوشش های فوق سخت با فناوری هیبریدی یکی از خدمات این شرکت به حساب می آید و هم اکنون بعنوان یکی از بزرگ ترین مراکز خدمات پوشش های فوق سخت به روش رسوب دهی بخار پلاسمایی در ایران فعالیت دارد.
لایه نشانی فیزیکی بخار (PVD) نام یک خانواده بزرگی از روش های پوشش دهی برپایه فناوری خلا است که امروزه به طور گسترده ای برای تولید لایه های نازک و پوشش ها استفاده می شود. در تمام روش های PVD، ماده از حالت فاز جامد (که معمولاً تارگت نامیده می شود) به حالت فاز بخار می رود و سپس متراکم شده و به شکل جامد بر روی زیرلایه مورد نظر رسوب می کند.
معمولاً فرآیندهای PVD را در دو گروه اسپاترینگ و تبخیری (حرارتی) تقسیم می کنند. در روش اسپاترینگ، بیشتر تمرکز بر روی بمباران یونی تارگت است که اساسا روشی غیر حرارتی قلمداد می شود، در حالیکه در دیگر روش های تبخیری، با اعمال یک چشمه حرارتی چه به صورت موضعی و چه به صورت تمام تلاش می شود به تارگت آن قدر گرما وارد شود تا بخشی از آن به صورت بخار وارد فاز گازی شود.
در لایه نشانی قوس کاتدی (که به آن Arc-PVD هم گفته می شود) یک قوس الکتریکی وظیفه گرمایش موضعی تارگت را بر عهده دارد. در فرایند لایه نشانی، عناصر، آلیاژها یا ترکیبات ابتدا تبخیر شده و سپس در محیط خلا بر روی زیرلایه رسوب می کنند. این فرایند در فشاری کمتر از ۰/۱ پاسکال (۱ میلی تور) و معمولاً در فشار خلا بین ۱۰ تا ۰/۱ میلی پاسکال انجام می پذیرد. دمای زیرلایه می تواند از دمای اتاق تا ۵۰۰ درجه سانتیگراد تغییر کند.
ماده تبخیر شده سپس بر روی زیرلایه رسوب کرده و تشکیل یک لایه نازک را می دهد. این روش می تواند برای لایه نشانی فلزات، سرامیک ها و فیلمهای کامپوزیتی استفاده گردد.
استفاده صنعتی فناوری لایه نشانی قوس کاتدی از دهه های ۶۰ تا ۷۰ میلادی آغاز شد. این فرایند با برخورد قوس های جریان بالا و ولتاژ پایین بر روی سطح تارگت آغاز می شود که منجر به تشکیل نقاط بسیار داغ موضعی می شود. دما در این نقاط به بالای ۱۵۰۰۰ درجه سانتیگراد می رسد، در نتیجه یک توده بخاری به سرعت از این مواضع داغ موضعی شکل می گیرد. لازم به ذکر است این مواضع داغ موضعی برای زمان های کوتاهی فعال می باشند. با تغییر محل برخورد قوس الکتریکی، این مکان قبلی غیر فعال شده و مکان جدیدی بر روی سطح تارگت هدف برخورد قوس قرار می گیرد. ازاین رو این گونه به نظر می آید که مکان های موضعی دما بالا و قوس درحال حرکت بر روی سطح تارگت هستند.
به نقل از ستاد نانو، امتیاز کلیه فرآیندهای تبخیر در خلأ آن است که لایه های مختلفی از مواد مختلف می توانند با سرعت و خلوص بالا ایجاد شوند. از آنجائیکه این فرآیندها اصطلاحا از نوع لایه نشانی مسیر خط دید (line-of-sight) هستند، ایجاد پوشش بر روی سطوح زبر و غیر صاف امکان دارد مشکل ساز باشد و منجر غیریکنواختی در ضخامت پوشش نهایی شود.
لایه نشانی قوس کاتدی به صورت گسترده ای برای ساخت لایه های خیلی سخت برای حفاظت از ابزارآلات برش و افزایش عمر آنها استفاده می شود.
منبع: هوا فضا
این مطلب را می پسندید؟
(0)
(0)
تازه ترین مطالب مرتبط
نظرات بینندگان در مورد این مطلب